70xj****表面工程技術發(fā)展前沿概述(上) ——表面工程技術；應用
xj****表面工程技術發(fā)展前沿概述(上)
摘要：xj****表面工程技術是當代材料科技、真空科技與高科技的交叉領域和發(fā)展前沿，成為現(xiàn)代高新技術領域和xj****制造業(yè)的重要前沿之一，在高性能防護涂層和功能薄膜方面應用廣泛。本文綜述了xj****表面工程的發(fā)展趨勢、工藝過程及其新進展與當代科技架構的關系以及xj****表面工程技術的產(chǎn)業(yè)化。文章***后強調指出，在xj****表面工程技術中采用遠離平衡態(tài)鍍膜技術、等離子體技術、激光技術、納米技術等均取得了******的應用效果。
關鍵詞：表面工程；技術；應用
中圖分類號：TB43 文獻標識碼：A 文章編號：1002-0322(2004)05-0001一06
1 xj****的表面工程技術的若干走向
xj****表面工程技術是當代材料科學技術、真空科技與高技術的重要交叉領域和發(fā)展前沿。xj****表面工程技術在高性能防護涂層方面的應用，仍在繼續(xù)發(fā)展，成為現(xiàn)代高新技術領域和xj****制造業(yè)的重要前沿之一；功能涂層和薄膜技術近年來發(fā)展迅速。以上趨勢一方面使防護涂層走向多功能化，既提高了產(chǎn)品的品位，同時還有利于降低成本，便利應用，增加產(chǎn)品的市場競爭能力。另一方面，又使表面工程技術逐步發(fā)展成為新型材料制備工藝，其中既有作為體材料的制備工藝，如電鑄成型、氣相沉積特種材料（熱解石墨、六方氮化硼、碳化硅）、噴射成型等，又有薄膜和微制造工藝，這后一類技術的特征尺寸還在不斷地向更低數(shù)值擴展。其結果是，微小特征尺度的xj****表面工程技術正在逐步發(fā)展成為微／納技術的重要組成部分。在以上各方面，xj****表面工程技術已在世界范圍內，為科技和經(jīng)濟的發(fā)展作出了重要的貢獻。在我國，xj****表面工程技術已成為趕超******xj****水平的重要前沿陣地。
2 xj****表面工程的發(fā)展趨勢
按其工作原理，表面工程技術可分為以下四大類。
①原子沉積
是指通過形成原子分散狀態(tài)的物質來沉積所需表面層或薄膜的技術，包括了液相沉積和氣相沉積兩類。前者如電鍍、化學鍍、電泳、溶膠一凝膠等，而后者則有物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)、分子束外延(MBE)三大類別。其中，PVD又分為蒸發(fā)、濺射和離子鍍三類；CVD則有熱CVD(TCVD)、金屬有機化合物化學氣相沉積(MOCVD)和等離子體增強CVD(PECVD)等。
②顆粒沉積
是指利用宏觀顆粒狀態(tài)的物質，沉積所需薄膜的方法。例如，熱噴涂、冷噴涂、靜電噴涂。
③整體復蓋
是指利用連續(xù)介質狀態(tài)的物質，形成所需薄膜的方法。如包鍍、熱浸、表面燒結。
④表面改性
是指通過對基體表面施加力學、物理和化學的作用，直接形成所需特性的表面層。例如，表面研磨、表面拋光、表面粗化、表面噴丸、表面滾花、表面化學刻蝕、載能束表面刻蝕、表面應力控制、表面晶粒細化(納米化)、化學轉化層、離子滲氮(碳、碳氮)、滲鋁和硅鋁共滲、陽極化、磷化、硫化、氧化(發(fā)蘭)、表面輻照、離子注入等。
以上列出的是表面工程的全部類型，而本文關注的僅僅是其中作為高技術一部分的xj****表面工程的發(fā)展動向。作為xj****表面工程的事例，我們在分類里加入了不少新型工藝?？磥?，上述分類方法有利于我們抓住工藝原理和高新技術發(fā)展需求的核心點，因而至今仍是適當?shù)?。值得注意的是，是否屬于xj****表面工程，并不是一成不變的。例如，液相沉積、液相化學刻蝕等“濕法技術”直到80年代初仍是集成電路微細加工技術的主流工藝，而到了90年代，隨著集成電路特征尺寸接近和進入納米范圍，氣相沉積、等離子體刻蝕、載能束刻蝕等“干法技術”逐漸地，又是不可逆轉地變成了微細加工技術的主流工藝。同時，作為整個信息技術領域需要的配套，發(fā)展了一大批高性能有效率低成本的微／納米加工技術。其結果是，薄膜技術和刻蝕技術從整體上構成了當代微細加工技術的主體，并提供了向納米加工進軍的扎實可靠途徑。因而在當代xj****表面工程技術中占有越來越重要的地位。xj****表面工程內涵適應高新技術需求的不斷演變，正是它旺盛生命力的源泉。
近年來，越來越傾向于采用真空氣相沉積薄膜技術。其中，分子束外延、激光分子束外延(LMBE)、脈沖激光沉積(PLD)、超高真空化學氣相沉積(UVCVD)等，可提供極端條件，有利于了解規(guī)律性，以得出創(chuàng)新性強的結果。但是，極端條件一般不會是***佳的解決辦法。而直流磁控濺射(DCMS)、射頻磁控濺射(RFMS)、射頻化學氣相沉積(RFCVD)、中頻磁控濺射(MFMS)、脈沖偏壓電弧離子鍍(PBAIP)則屬于既提供遠離平衡態(tài)條件[1]又具有節(jié)能、環(huán)保等優(yōu)良綜合性能，因而有可能逐步發(fā)展成更為常用的方法。
產(chǎn)業(yè)化的制備技術則要求全面滿足工業(yè)化長期穩(wěn)定生產(chǎn)、高產(chǎn)率、節(jié)能、節(jié)材、環(huán)保、生態(tài)、物質循環(huán)、低成本等多方面的指標，目前常用的工業(yè)化生產(chǎn)技術有直流磁控濺射、中頻磁控濺射、脈沖偏壓電弧離子鍍、蒸發(fā)鍍、熱化學氣相沉積、等離子體化學氣相沉積等。真空氣相沉積的優(yōu)點在于嚴格控制工藝條件，但也會提高產(chǎn)品成本。因此，目前人們已在開展大氣壓下的氣相沉積研究，并開始走向產(chǎn)業(yè)化。