化學鍍鎳出現(xiàn)故障如何解決
發(fā)布時間：2018.09.11 新聞來源：不銹鋼酸洗鈍化液-不銹鋼酸洗鈍化膏-天長市俊武不銹鋼表面處理材料廠 瀏覽次數(shù)：
電鍍是利用外電流將電鍍液中的金屬離子在陰極上還原成金屬的過程。而化學鍍是不外加電流，在金屬表面的催化作用下經(jīng)化學還原法進行的金屬沉積過程。其中化學鍍鎳是應用***多***廣的一個基礎鍍種，今天我們樂將團隊就與平臺上各位分享下其在生產(chǎn)中***常見的故障及解決辦法。
（1）沉積速度慢（這點也是平臺上***多朋友咨詢的）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍液pH值過低：測pH值調整，并控制pH在下限值。雖然pH值較高能提高沉速，但會影響鍍液穩(wěn)定性。
鍍液溫度過低：要求溫度達到規(guī)范時下槽進行施鍍。新開缸第一批工件下槽時，溫度應達到上限，反應開始后，正常施鍍時，溫度在下限為好。
溶液主成分濃度低：分析調整，如還原劑不足時，添加還原補充液；鎳離子濃度偏低時，添加鎳鹽補充液。對于上規(guī)模的化學鍍鎳，設自動分析、補給裝置是必要的，可以延長連續(xù)工作時間（由30h延至56h）和鎳循環(huán)周期（由6周延至11周）。
亞磷酸根過多：棄掉部分鍍液。
裝載量太低：增加受鍍面積至1dm2/L。
穩(wěn)定劑濃度偏重：傾倒部分，少量多次加濃縮液。
（2）鍍液分解（鍍液呈翻騰狀，出現(xiàn)鎳粉）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
溫度過高或局部過熱：攪拌下加入溫去離子水。
次亞磷酸鈉大多：沖稀補加其它成分。
鍍液的pH值過高：調整pH值至規(guī)范值。
機械雜質：過濾除去。
裝載量過高：降至1dm2/L
槽壁或設備上有沉淀物：濾出鍍液，退鍍清洗（用3HNO3溶液）。
操作溫度下補加液料大多：攪拌下少量多次添加。
穩(wěn)定劑帶出損失：添加少量穩(wěn)定劑。
催化物質帶入鍍液：加強鍍前清洗。
鍍層剝離碎片：過濾鍍液。
（3）鍍層結合力差或起泡
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍前處理不良：提高工作表面的質量，加工完成后應清除工件上所有的焊接飛濺物和焊渣。工件表面的粗糙度應達到與精飾要求相當?shù)拇植诹x，如碳鋼工件表面粗糙度Ra<1.75μm時，很難獲得有******附著力的鍍層；對于嚴重銹蝕的非加工表面，可用角向磨光機打磨，***好采用噴砂或噴丸處理；工件鍍前適當?shù)幕罨幚砜梢蕴岣咤儗拥母街?。如合金鋼、鈦合金可用含氟化物的鹽酸活化后，與碳鋼件混裝施鍍；高級合金鋼和鉛基合金預鍍化學鎳；碳鋼活化時注意脫碳。
溫度波動太大：控制溫度在較小的范圍波動。
下槽溫度太低：適當提高下槽溫度。
清洗不良：改進清洗工序。
金屬離子污染：用大面積廢件鍍而除去。
有機雜質污染：活化炭1-2g/L 處理。
熱處理不當：調整熱處理時間和溫度。
（4）鍍層粗糙
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍液濃度過高：適當沖稀鍍液。
鍍液的pH值過高：降低pH值至規(guī)范值。
機械雜質：過濾除去。
亞磷酸鹽過高：棄掉部分鍍液。
加藥方法不對：不可直接加固體藥品或用鍍液溶解藥品。
清洗不夠 ，帶入污染：加強清洗。
絡合劑濃度偏低：補充絡合劑。
工藝用水污染：使用去離子水或蒸餾水。
（5）鍍層不完整（漏鍍）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
前處理不當、鍍件局部鈍化或油污、清洗水不干凈等：加強前處理，更換清洗水。
裝掛不對有氣袋：改進裝掛方法、抖動工件、變換位置等。
十二烷基硫酸鈉污染：活性炭吸附。
金屬離子污染：除去（見上述），過濾。
底層金屬影響：鍍前閃電鍍鎳。
穩(wěn)定劑過量：棄去部分鍍液。
（6）鍍層針孔（通常鍍層厚度達10μm以上是無孔）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
工件前處理不當和酸洗后停留時間過長：提高工件表面加工質量，酸洗后應在30s內(nèi)進入鍍液。
pH值過高：降低pH值。
鍍液組份變質和老化：報廢鍍液。
懸浮不溶物：過濾除去。
裝載量過大：減至1dm2/ L，降低pH值。
金屬離子污染：除去。對于含pb、cd、Zn、Sn等元素的基材，在施鍍鎳前，***好電鍍1~5μm的鎳打底，以阻止有害元素進入鍍液。
攪拌不充分：擺動工作。
有機雜質污染：活性炭處理。
（7）鍍液不沉積鎳
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
穩(wěn)定劑濃度過高：棄去部分鍍鎳。
表面未活化：改進鍍前處理工藝。
表面非催化：鍍前表面催化處理
鍍液pH值、溫度過低：調整之。
金屬離子污染：加1~2g/L活性炭過濾，通電處理。
（8）pH值變化快
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
前處理溶液帶入：改進清洗工序。
裝載量太大：減少受鍍面積。
pH值出范圍：調pH至***佳范圍。
（9）鎳離子消耗過快
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
槽壁和設備鍍上鎳：處理方法同（2）--⑥
載量太大：減少裝載量。
鍍液分解：濾去鍍液分析調整或報廢。
補充硫酸鎳不及時：補加主鹽。
（10）鍍層光亮度下降、發(fā)黑或不均勻
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍液過度濃縮（水份蒸發(fā)超過30）：補水
鍍液老化（使用壽命達6周期）：報廢舊液。
絡合劑用錯或絡合劑、穩(wěn)定劑變質：無法恢復鍍液性能時只能將鍍液報廢。
施鍍條件不當，如pH值或溫度過高，溶液攪拌和工件陰極移動不良等：調低pH值至規(guī)定值的下限，當鍍液壽命超過2周期時，pH值控制在4.2為好。但pH=3.5---4.0之間也能得到光亮的鍍層；******的鍍液攪拌系統(tǒng)工程和工件移動以及低溫施鍍都有利于提高鍍層光亮度。并控制鍍液流速<0.3m/s避免造成漏鍍。
有機雜質污染：處理方法同（3）---⑥。
前處理不充分：加強前處理。
（11）鍍層有麻點
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
工件表面光潔度較低：盡量提高工件的表面質量。
在施鍍時調整pH值：施鍍時不調pH值。
鍍液不穩(wěn)定和鍍液中懸浮顆粒較多：加強過濾，補充一定的穩(wěn)定劑。
工件擺放位置不當：工件較重要的表面朝下或豎直成90o，并將工件預熱到70oC以上施鍍，可改善工件向上的光潔度。
（12）鍍層厚度不均勻（可以看到鍍液中氣泡的析出量較正常情況下要多）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
由于工件幾何形狀影響工件表面上的氫氣逸出不易，有妨礙氫氣順利排出的部位可能造成鍍層較?。?**好采用滾鍍法。對于較大的工件也應盡可能性在施鍍過程中移動、鍍液攪拌、降溫等，以利于氫氣的排出，提高鍍層厚度的均勻性。
工件材質不同：不同材料的化學鍍鎳速度是不同的，所以不同材質的工件一起施鍍時，須***分別測量不同材質工件的鍍層厚度。
（13）鍍層表面化有大量"花斑"，局部有暗色條紋或斑塊狀沉積物（用10倍放大鏡觀察）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
前處理清洗不良，工件表面粘附了某些雜質：更換洗凈劑，鍍層恢復了均勻的光亮表面。
（14）鍍液中毒（工件上的析氫量較正常情況下多，且沉積速度很慢）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
穩(wěn)定劑過量：通電處理。（工件作陰極，不銹鋼件陽極，Dk=0.6~1.0A/dm2電解1~5min;將鍍液置于80oC保溫24h;如鍍液還不行，***好將鍍液儲存起來，分批與新鍍液混合使用。
緩蝕劑污染鍍液：酸洗液中緩蝕劑的加入要慎重，要防止微量緩蝕劑帶入鍍槽中。
（15）鍍槽不沉積鍍層
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍液中產(chǎn)生一些固體顆粒：將鍍液打入備用槽，再用30（wt）HNO3在40OC下清洗（不能冷洗），鈍化鍍槽5h，然后用水洗凈硝酸，再用干凈棉紗擦洗鍍槽上附著物。用清水清洗干凈。
鍍槽的防鍍效果不好：為了防止鍍槽上沉積鍍層，須***采取相應的防鍍方法。據(jù)稱，采用陽極保護法時，以工件作為陰極和參比電極效果好。在75~85OC的鍍液中維持不銹鋼鍍槽相對施鍍的工件的參比電位為+350~550mv時，鍍槽有******的鈍化性能。此時的陽極電流密度為20~90mA/m2。當機械雜質進入鍍槽或鍍槽上有鍍層產(chǎn)生時，其維鈍電流將有所上升，但很快將下降至正常水平。這樣防鍍效果好，并且可以提高鍍速10~20，而且對鍍層質量無顯著影響。
加熱管功率與其表面積之比不當：同樣功率的加熱管，應作得盡量長一些，管子粗一些，縮小加熱管，應作得盡量長一些，管子粗一些，縮小加熱管功率與其表面積之比。
施鍍設備及掛具用硝酸清洗不夠：每次開缸前用硝酸浸泡鍍槽、加熱管、掛具、滾筒等，即使沒有發(fā)現(xiàn)鎳鍍層也應這樣做。
（16）鍍液混濁
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
主鹽、還原劑濃度超過上限：調整溶液。
絡合劑濃度低：補充絡合劑。
pH值過高：降低鍍液pH值。
（17）槽液不環(huán)保，不能通過SGS認證測試，污染環(huán)境，廢液處理成本高
使用環(huán)保的化學鍍鎳液，如環(huán)?；瘜W鍍鎳光亮劑、環(huán)?；瘜W鍍鎳穩(wěn)定劑等，這樣不但增加產(chǎn)品的質量和穩(wěn)定性，而且鍍液環(huán)保，廢液易處理排放，成本底。
（1）沉積速度慢（這點也是平臺上***多朋友咨詢的）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍液pH值過低：測pH值調整，并控制pH在下限值。雖然pH值較高能提高沉速，但會影響鍍液穩(wěn)定性。
鍍液溫度過低：要求溫度達到規(guī)范時下槽進行施鍍。新開缸第一批工件下槽時，溫度應達到上限，反應開始后，正常施鍍時，溫度在下限為好。
溶液主成分濃度低：分析調整，如還原劑不足時，添加還原補充液；鎳離子濃度偏低時，添加鎳鹽補充液。對于上規(guī)模的化學鍍鎳，設自動分析、補給裝置是必要的，可以延長連續(xù)工作時間（由30h延至56h）和鎳循環(huán)周期（由6周延至11周）。
亞磷酸根過多：棄掉部分鍍液。
裝載量太低：增加受鍍面積至1dm2/L。
穩(wěn)定劑濃度偏重：傾倒部分，少量多次加濃縮液。
（2）鍍液分解（鍍液呈翻騰狀，出現(xiàn)鎳粉）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
溫度過高或局部過熱：攪拌下加入溫去離子水。
次亞磷酸鈉大多：沖稀補加其它成分。
鍍液的pH值過高：調整pH值至規(guī)范值。
機械雜質：過濾除去。
裝載量過高：降至1dm2/L
槽壁或設備上有沉淀物：濾出鍍液，退鍍清洗（用3HNO3溶液）。
操作溫度下補加液料大多：攪拌下少量多次添加。
穩(wěn)定劑帶出損失：添加少量穩(wěn)定劑。
催化物質帶入鍍液：加強鍍前清洗。
鍍層剝離碎片：過濾鍍液。
（3）鍍層結合力差或起泡
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍前處理不良：提高工作表面的質量，加工完成后應清除工件上所有的焊接飛濺物和焊渣。工件表面的粗糙度應達到與精飾要求相當?shù)拇植诹x，如碳鋼工件表面粗糙度Ra<1.75μm時，很難獲得有******附著力的鍍層；對于嚴重銹蝕的非加工表面，可用角向磨光機打磨，***好采用噴砂或噴丸處理；工件鍍前適當?shù)幕罨幚砜梢蕴岣咤儗拥母街?。如合金鋼、鈦合金可用含氟化物的鹽酸活化后，與碳鋼件混裝施鍍；高級合金鋼和鉛基合金預鍍化學鎳；碳鋼活化時注意脫碳。
溫度波動太大：控制溫度在較小的范圍波動。
下槽溫度太低：適當提高下槽溫度。
清洗不良：改進清洗工序。
金屬離子污染：用大面積廢件鍍而除去。
有機雜質污染：活化炭1-2g/L 處理。
熱處理不當：調整熱處理時間和溫度。
（4）鍍層粗糙
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍液濃度過高：適當沖稀鍍液。
鍍液的pH值過高：降低pH值至規(guī)范值。
機械雜質：過濾除去。
亞磷酸鹽過高：棄掉部分鍍液。
加藥方法不對：不可直接加固體藥品或用鍍液溶解藥品。
清洗不夠 ，帶入污染：加強清洗。
絡合劑濃度偏低：補充絡合劑。
工藝用水污染：使用去離子水或蒸餾水。
（5）鍍層不完整（漏鍍）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
前處理不當、鍍件局部鈍化或油污、清洗水不干凈等：加強前處理，更換清洗水。
裝掛不對有氣袋：改進裝掛方法、抖動工件、變換位置等。
十二烷基硫酸鈉污染：活性炭吸附。
金屬離子污染：除去（見上述），過濾。
底層金屬影響：鍍前閃電鍍鎳。
穩(wěn)定劑過量：棄去部分鍍液。
（6）鍍層針孔（通常鍍層厚度達10μm以上是無孔）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
工件前處理不當和酸洗后停留時間過長：提高工件表面加工質量，酸洗后應在30s內(nèi)進入鍍液。
pH值過高：降低pH值。
鍍液組份變質和老化：報廢鍍液。
懸浮不溶物：過濾除去。
裝載量過大：減至1dm2/ L，降低pH值。
金屬離子污染：除去。對于含pb、cd、Zn、Sn等元素的基材，在施鍍鎳前，***好電鍍1~5μm的鎳打底，以阻止有害元素進入鍍液。
攪拌不充分：擺動工作。
有機雜質污染：活性炭處理。
（7）鍍液不沉積鎳
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
穩(wěn)定劑濃度過高：棄去部分鍍鎳。
表面未活化：改進鍍前處理工藝。
表面非催化：鍍前表面催化處理
鍍液pH值、溫度過低：調整之。
金屬離子污染：加1~2g/L活性炭過濾，通電處理。
（8）pH值變化快
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
前處理溶液帶入：改進清洗工序。
裝載量太大：減少受鍍面積。
pH值出范圍：調pH至***佳范圍。
（9）鎳離子消耗過快
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
槽壁和設備鍍上鎳：處理方法同（2）--⑥
載量太大：減少裝載量。
鍍液分解：濾去鍍液分析調整或報廢。
補充硫酸鎳不及時：補加主鹽。
（10）鍍層光亮度下降、發(fā)黑或不均勻
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍液過度濃縮（水份蒸發(fā)超過30）：補水
鍍液老化（使用壽命達6周期）：報廢舊液。
絡合劑用錯或絡合劑、穩(wěn)定劑變質：無法恢復鍍液性能時只能將鍍液報廢。
施鍍條件不當，如pH值或溫度過高，溶液攪拌和工件陰極移動不良等：調低pH值至規(guī)定值的下限，當鍍液壽命超過2周期時，pH值控制在4.2為好。但pH=3.5---4.0之間也能得到光亮的鍍層；******的鍍液攪拌系統(tǒng)工程和工件移動以及低溫施鍍都有利于提高鍍層光亮度。并控制鍍液流速<0.3m/s避免造成漏鍍。
有機雜質污染：處理方法同（3）---⑥。
前處理不充分：加強前處理。
（11）鍍層有麻點
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
工件表面光潔度較低：盡量提高工件的表面質量。
在施鍍時調整pH值：施鍍時不調pH值。
鍍液不穩(wěn)定和鍍液中懸浮顆粒較多：加強過濾，補充一定的穩(wěn)定劑。
工件擺放位置不當：工件較重要的表面朝下或豎直成90o，并將工件預熱到70oC以上施鍍，可改善工件向上的光潔度。
（12）鍍層厚度不均勻（可以看到鍍液中氣泡的析出量較正常情況下要多）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
由于工件幾何形狀影響工件表面上的氫氣逸出不易，有妨礙氫氣順利排出的部位可能造成鍍層較?。?**好采用滾鍍法。對于較大的工件也應盡可能性在施鍍過程中移動、鍍液攪拌、降溫等，以利于氫氣的排出，提高鍍層厚度的均勻性。
工件材質不同：不同材料的化學鍍鎳速度是不同的，所以不同材質的工件一起施鍍時，須***分別測量不同材質工件的鍍層厚度。
（13）鍍層表面化有大量"花斑"，局部有暗色條紋或斑塊狀沉積物（用10倍放大鏡觀察）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
前處理清洗不良，工件表面粘附了某些雜質：更換洗凈劑，鍍層恢復了均勻的光亮表面。
（14）鍍液中毒（工件上的析氫量較正常情況下多，且沉積速度很慢）
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
穩(wěn)定劑過量：通電處理。（工件作陰極，不銹鋼件陽極，Dk=0.6~1.0A/dm2電解1~5min;將鍍液置于80oC保溫24h;如鍍液還不行，***好將鍍液儲存起來，分批與新鍍液混合使用。
緩蝕劑污染鍍液：酸洗液中緩蝕劑的加入要慎重，要防止微量緩蝕劑帶入鍍槽中。
（15）鍍槽不沉積鍍層
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
鍍液中產(chǎn)生一些固體顆粒：將鍍液打入備用槽，再用30（wt）HNO3在40OC下清洗（不能冷洗），鈍化鍍槽5h，然后用水洗凈硝酸，再用干凈棉紗擦洗鍍槽上附著物。用清水清洗干凈。
鍍槽的防鍍效果不好：為了防止鍍槽上沉積鍍層，須***采取相應的防鍍方法。據(jù)稱，采用陽極保護法時，以工件作為陰極和參比電極效果好。在75~85OC的鍍液中維持不銹鋼鍍槽相對施鍍的工件的參比電位為+350~550mv時，鍍槽有******的鈍化性能。此時的陽極電流密度為20~90mA/m2。當機械雜質進入鍍槽或鍍槽上有鍍層產(chǎn)生時，其維鈍電流將有所上升，但很快將下降至正常水平。這樣防鍍效果好，并且可以提高鍍速10~20，而且對鍍層質量無顯著影響。
加熱管功率與其表面積之比不當：同樣功率的加熱管，應作得盡量長一些，管子粗一些，縮小加熱管，應作得盡量長一些，管子粗一些，縮小加熱管功率與其表面積之比。
施鍍設備及掛具用硝酸清洗不夠：每次開缸前用硝酸浸泡鍍槽、加熱管、掛具、滾筒等，即使沒有發(fā)現(xiàn)鎳鍍層也應這樣做。
（16）鍍液混濁
造成這種現(xiàn)象的原因與解決方法：
主鹽、還原劑濃度超過上限：調整溶液。
絡合劑濃度低：補充絡合劑。
pH值過高：降低鍍液pH值。
（17）槽液不環(huán)保，不能通過SGS認證測試，污染環(huán)境，廢液處理成本高
使用環(huán)保的化學鍍鎳液，如環(huán)?；瘜W鍍鎳光亮劑、環(huán)?；瘜W鍍鎳穩(wěn)定劑等，這樣不但增加產(chǎn)品的質量和穩(wěn)定性，而且鍍液環(huán)保，廢液易處理排放，成本底。
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